逛設計展發現很多學校作品會貼「專利申請中」「請勿拍照」，不過根據專利法已經公開展出應該就無法申請？我知道有優惠期，不過不給人拍照應該也沒意義？正確的做法是什麼？
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搜廠商
關於專利法指出公開則可能失去新穎性，故，有優惠期的制度設計。
但是關於提供他人拍照，這屬於他人的著作權尤其是在展覽會場，
但是優惠期依然是有對你做出保護，因為時間不可逆，只要提出合理的公開資料，
對於專利申請依然有保護的。
我還是以過來人身分說吧!
不對的話.請幫忙修正
專利一般分三種
所謂發明...
從無到有.從沒有見過
或是既有的結構用在全新未知的設備/裝置.產生新的應用!
但這類被駁回居多!
大部分原因在於審核專利時.相似或結構相近!
都會被駁回!
新型
就是創新應用
這類大部分被駁回.基本在於仿冒太接近
打比方
傳統皮帶捲尺與雷射尺
一個是用卷皮帶彈簧方式帶動薄尺測量長度
另一個是打雷射方式測距!
目的是依樣....測量距離
最糟糕是.大小接近.只差一個機構結構/光學結構
所以無法用"發明"僅用新型
但用光學也能辦到機器測量
所以都以新型為主
新式樣
就我理解...
以手機保護殼來說...
傳統保護殼以硬殼為主.
然後出了矽膠.
多了保護貼
背殼多了彩繪....等
這已脫離新型型態
向多方面美化與功能話
但...市面太多類似產品
所以這類都以新式樣為主
同上...
專利申請
已發明申請最久
我之前申請超過一年6個月以上(需要與國外類似發明專利比較)
新型大約6個月內
新式樣最短
所以如果對自己的發明品有信心.且手頭寬裕
基本上是 發明 + 新型
手頭不寬裕 發明
想衝銷售 發明 + 新型
但是...想銷售台灣與國外....就要考慮財力
因為各國專利費用不一樣!
至於展覽時的公開問題
當年我是...發明(審核中) +新型(已通過)
我已沒有這問題
你的問題在於
"發明"申請中....
僅發明而已!!!
一般審核過程中
被人"搞鬼"問題也最多!
這方面...基本上不建議參加和展覽
智慧財產局辦理"發明展"除外!
但是禁止拍照這問題!!!
"防君子.不防小人"
有可能你今天作品在台灣展出...
也被人偷拍
晚上被人制圖做稿
隔天送到歐美各國申請專利...這...也有!!!
這類手法源自於歐美流行"專利蟑螂"
如果沒有生產壓力.
基本上建議...別先參展
正確的做法是什麼？
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